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摘要：本申请提供了一种坩埚及其制备方法，涉及坩埚制备技术领域，其中坩埚包括碳碳陶瓷基底和复合涂层；复合涂层包括依次层叠的碳化硅层、缓冲层、子复合层和氮化硅层；子复合层包括氮化硅和二氧化硅。坩埚的制备方法，包括：制备碳碳陶瓷基底；采用化学气相沉积法在碳碳陶瓷基底内表面沉积碳化硅层；在碳化硅层的一侧制备缓冲层；在缓冲层的一侧制备子复合层；采用化学气相沉积法在子复合层的一侧沉积氮化硅层。本申请设置复合涂层，复合涂层化学性能稳定、导热系数高、耐磨性能较好，防渗透能力好，同时复合涂层的结合力较高，复合涂层有利于提高坩埚的强度、耐磨性能和防渗透能力，使坩埚能够作为直接盛放硅溶液的容器代替石英坩埚。
主权项：1.一种坩埚，其特征在于，包括碳碳陶瓷基底和复合涂层，所述复合涂层位于所述碳碳陶瓷基底的内表面；所述复合涂层包括碳化硅层、缓冲层、子复合层和氮化硅层，所述碳化硅层位于所述碳碳陶瓷基底的内表面，所述子复合层位于所述碳化硅层背离所述碳碳陶瓷基底的一侧，所述缓冲层位于所述碳化硅层和所述子复合层之间，所述氮化硅层位于所述子复合层背离所述碳碳陶瓷基底的一侧；所述子复合层包括氮化硅和二氧化硅。
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百度查询： 晶科能源股份有限公司 坩埚及其制备方法
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