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一种循环上料方法 

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摘要:本申请涉及一种循环上料方法,循环上料装置包括机架、上料组件、下料组件,前竖移组件,后竖移组件,加工区,待加工区,上料区,多个上料盘可以分别堆叠放置在加工区和待加工区,多个上料盘也有其中一个在加工区,通过上料组件、上料组件、下料组件,前竖移组件,后竖移组件将上料盘在加工区、待加工区、上料区不断循环加工,因此,本循环上料方法在上料盘总数相同的情况下占地面积更小。

主权项:1.一种循环上料方法,其特征在于,包括以下步骤:将位于上料区12的上料盘转移至待加工区22上方,其中,所述上料区12位于待加工区22的前侧,且所述上料区12高于所述待加工区22;抬升位于待加工区22的上料盘承接转移到所述待加工区22上方的所述上料盘;抬升位于加工区22的上料盘,将上方的上料盘补充到所述上料区12,其中,上料区12高于加工区22,且加工区22位于所述待加工区22的前侧;将所述待加工区22的最下方的下料盘转移至所述加工区21最下方;将所述加工区21的其他所述上料盘放下,将所述待加工区22的其他所述上料盘放下,等待所述上料区12的所述上料盘中的工件上料完成后,重复上述步骤。

全文数据:

权利要求:

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