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摘要：本申请公开了一种像素结构、像素结构的制备方法和修复方法，像素结构包括薄膜晶体管、像素电极层、有机平坦层、公共电极层和第一绝缘层；像素电极层包括第一像素电极和第二像素电极，像素结构包括熔断区和熔接区，薄膜晶体管和第一像素电极设置在熔断区，公共电极层和第二像素电极设置在熔接区，有机平坦层和第一绝缘层覆盖设置在熔断区和熔接区内，有机平坦层对应熔接区形成有第一镂空部；公共电极层与第二像素电极设置在第一镂空部内，熔接区内的有机平坦层的厚度小于熔断区内的有机平坦层的厚度。本申请通过改变熔接区的有机平坦层的厚度，避免镭射时有机平坦层出现收缩塌陷，导致像素电极在进行镭射的时候出现飞溅，使得像素暗点化失败。
主权项：1.一种像素结构，包括薄膜晶体管和像素电极层，其特征在于，所述像素结构还包括有机平坦层、公共电极层和第一绝缘层；所述像素电极层包括第一像素电极和第二像素电极，所述像素结构包括熔断区和熔接区，所述薄膜晶体管和第一像素电极设置在所述熔断区，所述公共电极层和第二像素电极设置在所述熔接区，所述有机平坦层和所述第一绝缘层覆盖设置在所述熔断区和所述熔接区内，且所述有机平坦层对应所述熔接区形成有第一镂空部；其中，所述公共电极层与所述第二像素电极设置在所述第一镂空部，所述熔接区内的所述有机平坦层的厚度小于所述熔断区内的有机平坦层的厚度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 惠科股份有限公司 像素结构、像素结构的制备方法和修复方法
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