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摘要：本发明公开了一种大面积纳米结构紫外接触式光刻方法，涉及微纳制造领域；该方法通过使用近零粘附的可转印光刻胶作为中间介质薄膜，确保了光刻胶与光刻掩模版之间的零间隙柔性软接触，实现了光刻掩模版结构的1:1高保真复制，进而实现了大面积纳米结构的低成本光刻制造。本发明实现了高效、低成本的完美共形接触式光刻，能够用于构建大面积、亚微米分辨率的无拼接结构；可实现对溶剂不兼容衬底、曲面不规则衬底及柔性衬底的光刻制造，并提高光刻掩模版的使用寿命。本发明有效克服了传统接触式光刻所面临的诸多挑战，有望显著推动光刻技术及微纳米制造技术的发展。
主权项：1.一种大面积纳米结构紫外接触式光刻方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：提供硬质光刻掩模版，在掩模版上旋涂近零粘附光刻胶，并进行退火处理以形成均匀的光刻胶薄膜；步骤2：对光刻胶薄膜进行紫外曝光；步骤3：将转印印章共形贴附在曝光后的光刻胶表面，并剥离光刻胶；步骤4：将剥离的光刻胶结构转印至目标受体衬底表面；步骤5：对转印至受体衬底表面的光刻胶进行显影处理，获得大面积纳米级光刻胶结构。
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百度查询： 湖南大学 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城) 一种大面积纳米结构紫外接触式光刻方法
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