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摘要：本发明涉及的测定装置1具有：控制部80；以及分光器10，其具有形成有使得被测定光L1通过的开口部132a的光学元件，控制部80执行至少对被测定光L1的光束点P在开口部132a内处于第1位置x1时的第1光谱S1i以及处于第2位置x2时的第2光谱S2i进行合成，生成缩窄化的被测定光L1的合成光谱Sri的第1处理，第1位置x1包含从光束点P的开口部132a内的基准位置x0向规定方向D的一侧偏移后的位置，第2位置x2包含从基准位置x0向另一侧偏移后的位置。
主权项：1.一种测定装置，其中，所述测定装置具有：控制部；以及分光器，其具有形成有使得被测定光通过的开口部的光学元件，所述控制部执行如下第1处理，即，至少对所述被测定光的光束点在所述开口部内处于第1位置时的第1光谱以及处于第2位置时的第2光谱进行合成，生成缩窄化的所述被测定光的合成光谱，所述第1位置包含从所述光束点的所述开口部内的基准位置向规定方向的一侧偏移后的位置，所述第2位置包含从所述基准位置向另一侧偏移后的位置。
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百度查询： 横河电机株式会社 横河计测株式会社 测定装置、测定方法以及程序
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