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摘要：本发明公开了一种磁控溅射用高致密钌铬合金靶材及其制备方法，属于磁控溅射用合金靶材技术领域。本发明通过将金属钌粉与铬粉依次进行球磨混合、在氢气氛围下热处理及高真空下煅烧、预压制、放电等离子烧结和低压烧结相结合得到磁控溅射用高致密钌铬合金靶材，有效降低混合粉末中的C、O等杂质的含量，提高靶材的纯度；而且靶材的微观组织均匀、晶粒尺寸细小、致密度高，避免热等静压烧结过程中模具中C在长时间高温烧结过程中向钌铬合金的扩散，从而保障了钌铬合金的高致密度并成功解决了粉末冶金工艺制备靶材中C、O杂质较高的难题。
主权项：1.一种磁控溅射用高致密钌铬合金靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1将金属钌粉与铬粉通过球磨混合均匀，得到混合粉；2将混合粉在氢气氛围下热处理及高真空下煅烧；3将热处理后的混合粉进行预压制；4将预压制后的混合粉进行放电等离子烧结得到合金靶材坯料；5将合金靶材坯料进行低压烧结得到磁控溅射用高致密钌铬合金靶材。
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百度查询： 云南贵金属实验室有限公司 云南省贵金属新材料控股集团股份有限公司 一种磁控溅射用高致密钌铬合金靶材及其制备方法
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