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一种气体混合装置及半导体加工设备 

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摘要:本发明公开了一种气体混合装置及半导体加工设备,气体混合装置包括:混合仓体,一端设有用于接收多种气体的输入端,另一端设有用于输出经混合的多种气体的输出端;混气件,设置于混合仓体内,且一侧与输入端间隔有第一缓冲区;匀气件,设置于混合仓体内,且一侧与混气件的另一侧间隔有第二缓冲区,另一侧与输出端间隔有储存区;其中,第一缓冲区的空间形状沿气体流向呈锥形发散设置,储存区的空间形状沿气体流向呈锥形聚拢设置。本发明将第一缓冲区和储存区的空间形状设计成锥形,可防止气体流动过程中形成涡流和死区,也能起到防止气体反流效果。多种气体经过混气件进行混合后再经过匀气件进行匀气,可使得混合后的混合气体更加均匀。

主权项:1.一种气体混合装置,其特征在于,包括:混合仓体,一端设有用于接收多种气体的输入端,另一端设有用于输出经混合的多种气体的输出端;混气件,设置于所述混合仓体内,且一侧与所述输入端间隔有第一缓冲区;匀气件,设置于所述混合仓体内,且一侧与所述混气件的另一侧间隔有第二缓冲区,另一侧与所述输出端间隔有储存区;其中,所述第一缓冲区的空间形状沿气体流向呈锥形发散设置,所述储存区的空间形状沿气体流向呈锥形聚拢设置。

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