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申请/专利权人：江苏兴启航新材料科技有限公司

摘要：本发明公开了一种二氧化硅薄膜的高压磁控溅射设备，包括：主体框架、反应器、翻转装置和真空泵，其中主体框架内设置分别设置有反应器和翻转装置，并且真空泵工作端与主体框架内部空间相连接；反应器处在翻转装置下方；翻转装置包括：支撑架、传动结构和翻转结构，其中；支撑架通过安装孔设置在主体框架侧壁上，并且支撑架上设置有直角形状的轨道槽；传动结构传动端与翻转结构工作端相连接，翻转结构可移动设置在轨道槽内，并且翻转结构工作端上设置有承载盘；传动结构工作时，带动翻转结构沿着轨道槽进行移动，从而使翻转结构工作端进行翻转，本发明可以提高覆膜的均匀性和纯度，并防止薄膜厚度达到时材料继续溅射到基板上。

主权项：1.一种二氧化硅薄膜的高压磁控溅射设备，其特征在于，包括：主体框架1、反应器2、翻转装置3和真空泵4，其中；所述主体框架1内设置分别设置有反应器2和所述翻转装置3，并且所述真空泵4工作端与所述主体框架1内部空间相连接，所述主体框架1上开设有进气口11；所述反应器2处在所述翻转装置3下方；所述翻转装置3包括：支撑架31、传动结构32和翻转结构33，其中；所述支撑架31通过安装孔设置在所述主体框架1侧壁上，并且所述支撑架31上设置有直角形状的轨道槽311；所述传动结构32包括：传动杆321、电动伸缩杆322、导轨323、支撑块324、横向滑轨结构325和竖向滑轨结构326，其中；所述导轨323横向设置在所述轨道槽311顶部的所述支撑架31上；所述支撑块324可移动设置在所述导轨323上；所述传动杆321两端分别轴连接设置在所述支撑块324和所述翻转结构33工作端上；所述电动伸缩杆322一端固定设置在所述主体框架1上，另一端穿过所述支撑架31与所述支撑块324相连接；两个所述竖向滑轨结构326分别设置在所述轨道槽311两侧；所述横向滑轨结构325可移动设置在两个所述竖向滑轨结构326上，并且所述横向滑轨结构325移动端与所述翻转结构33相连接；所述翻转结构33可移动设置在所述轨道槽311内，并且所述翻转结构33工作端上设置有承载盘331；所述传动结构32工作时，带动所述翻转结构33沿着所述轨道槽311进行移动，从而使所述翻转结构33工作端进行翻转。

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