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摘要：本发明涉及电解铜箔技术领域，具体为一种使用记忆高分子材料实现阴极辊遮蔽的方法，包括如下步骤：步骤一，选择形状记忆高分子材料作为遮蔽材料；步骤二，将形状记忆高分子材料制备为所需要的形状或尺寸；步骤三，在特定温度下，将所述遮蔽材料收纳打包为便于运输的形状；步骤四，将所述遮蔽材料覆盖到需进行阴极遮蔽的区域；步骤五，通过热、光、化学作用等使所述遮蔽材料形貌回复为制备成型时的形态。选用的封边材料为聚氨酯改性丙烯酸酯类胶粘剂，可从市场上简便获得，且封边处理相对简单，易于操作，且易剥离，不伤阴极辊。
主权项：1.一种使用记忆高分子材料实现阴极辊遮蔽的方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一，选择形状记忆高分子材料作为遮蔽材料；步骤二，将形状记忆高分子材料制备为所需要的形状或尺寸；步骤三，在特定温度下，将所述遮蔽材料收纳打包为便于运输的形状；步骤四，将所述遮蔽材料覆盖到需进行阴极遮蔽的区域；步骤五，通过热、光、化学作用等使所述遮蔽材料形貌回复为制备成型时的形态；步骤六，选择适当的胶粘剂作为封边材料并借助于专用工装将前述胶粘剂均匀齐整的涂布于形成遮蔽的高分子记忆材料边缘部位；步骤七，通过UV紫外固化机使所述胶粘剂固化交联形成良好的封边效果沉积生铜，使遮蔽材料的遮蔽效果被破坏。
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