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申请/专利权人：巴黎综合理工学院;法国国家科学研究中心;索邦大学;国家高等先进技术学院

摘要：本发明涉及具有二氢苯并氧杂环庚三烯结构的化合物的合成领域。特别地，本发明涉及由具有色烯结构的化合物经光化学重排制备包含2,5‑二氢‑1‑苯并氧杂环庚三烯结构的化合物的方法。

主权项：1.一种用于合成下式I的化合物的方法：[化学式15] 其中：-R1代表氢原子或C1-C6烷基，-R2、R3和R4各自独立地代表氢原子、卤原子、C1至C5烷基或环烷基、或选自-OH、-COOH、-COOR6、-OR6和-SO2R6的基团，其中R6为C1至C5烷基或环烷基，所述C1至C5烷基或环烷基可以经选自卤原子和羟基的一个或多于一个取代基取代；-R5代表氢原子、卤原子、C1至C5烷基或环烷基、或选自-OH、-COOH、-COOR6、-OR6和-SO2R6的基团，其中R6为C1至C5烷基或环烷基，所述C1至C5烷基或环烷基可以经选自卤原子和羟基的一个或多于一个取代基取代，或者R5代表-L-A基团，其中：*L代表选自具有至少一个碳原子的直链和带支链的亚烷基链的键合臂，所述直链或带支链的亚烷基链可以被选自氧、硫或经取代的氮原子的一个或多于一个杂原子中断和或封端，并且*A代表选自苯基、萘基、呋喃基、噻吩基、吡咯基、吡啶基、吲哚基、异吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、噁唑基、噻唑基、嘧啶基、哒嗪基、吡嗪基、吡唑基和三唑基的芳香族基团，所述芳香族基团A可以经选自卤原子、C1至C5烷基或环烷基、-OH基团、-COOH基团、-COOR7基团、-OR7基团和-SO2R7基团的一个或多于一个取代基取代，其中R7为C1至C5烷基或环烷基，所述C1至C5烷基或环烷基可以经选自卤原子和羟基的一个或多于一个取代基取代，或经其有机盐或无机盐之一取代，并且其中-R2、R3、R4和R5基团中的至少一个代表-OH基团，其特征在于，所述方法包括用紫外辐射辐照下式II的化合物在溶剂中的溶液的步骤：[化学式16] 其中R1、R2、R3、R4和R5具有与式I的化合物如下所示的相同的含义。

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权利要求：

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