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申请/专利权人：京东方华灿光电(苏州)有限公司
摘要：本公开提供了一种用于等离子刻蚀机的托盘及等离子刻蚀机，属于半导体技术领域。所述托盘包括：托盘本体和多组定位组件，所述多组定位组件呈环形排列在所述托盘本体的上表面上，每组所述定位组件均包括用于对晶圆定位的多个定位销，每组所述定位组件中的所述多个定位销围绕形成晶圆放置区域，所述晶圆放置区域的外轮廓与所述晶圆的外轮廓相同。采用该托盘可以提高LED芯片干法刻蚀的均匀性。
主权项：1.一种用于等离子刻蚀机的托盘，其特征在于，所述托盘包括：托盘本体、贴合在所述托盘本体的上表面的第一区域内的耐高温绝缘胶带和多组定位组件，所述多组定位组件呈环形排列在所述托盘本体的上表面上，每组所述定位组件均包括用于对晶圆定位的多个定位销，每组所述定位组件中的所述多个定位销围绕形成晶圆放置区域，所述晶圆放置区域的外轮廓与所述晶圆的外轮廓相同；所述托盘本体为圆盘，所述第一区域为第一圆和第二圆之间的环形区域，所述第一圆为以所述托盘本体的中心为圆心，且半径与所述托盘本体的半径相同的圆，所述第二圆为以所述托盘本体的中心为圆心，且半径小于所述托盘本体的半径的圆，每组所述定位组件形成的所述晶圆放置区域的中心均位于所述第二圆内，最靠近所述第一区域的所述定位组件中的部分定位销位于所述第一区域内。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京东方华灿光电(苏州)有限公司 用于等离子刻蚀机的托盘及等离子刻蚀机
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