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申请/专利权人：上海超导科技股份有限公司

摘要：本发明提供了一种离子束辅助沉积镀膜装置，包括：源系统：包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统，镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束，刻蚀系统包括离子源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷；控制系统：在控制系统的作用下，所述走带系统进行收放卷，所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀。通过对前几道走带同时进行镀膜和刻蚀，且刻蚀速度大于镀膜速度，使净沉积速度很低，但由于高的刻蚀速度，在此沉积的氧化镁会形成极优的织构度，保证同根带材两端的织构度差别＜10％，最终制备的超导带材，两端的临界电流差别小于10％，进而提高了镀膜效果。

主权项：1.一种用于离子束辅助沉积镀膜装置的离子源调整系统，其特征在于，包括：源系统：包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统，所述镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束，所述刻蚀系统包括离子源；真空系统：提供真空环境；走带系统：对带材进行收放卷；控制系统：在控制系统的作用下，所述走带系统进行收放卷，所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀；还包括离子源调整机构，所述离子源调整机构调整镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源的倾斜角度，所述离子源调整机构调整镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源在竖直方向上的高度；所述离子源调整机构包括夹紧座、调整螺杆、调整螺母以及压紧块；所述夹紧座允许调整螺杆竖直穿入并沿调整螺杆的长度方向运动，所述调整螺母螺纹连接在调整螺杆上，且所述调整螺母设置在夹紧座的下方并与夹紧座接触；所述夹紧座允许与镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源紧固连接的连接轴转动安装，所述压紧块将与镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源紧固连接的连接轴与夹紧座紧固连接；所述镀膜系统发射的离子束包括聚焦束或平行束，所述刻蚀系统发射的离子束包括发散束或平行束；所述走带系统包括n道连续走带，n为带材的总道数；所述镀膜系统发出的离子束中心线与靶材的交点对应带材刻蚀镀膜区域的后二分之一n道带材区，形成带材镀膜区；所述刻蚀系统发出的离子束中心线与带材的交点位于带材刻蚀镀膜区域的前二分之一n道带材区，形成带材刻蚀区。

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百度查询： 上海超导科技股份有限公司 用于离子束辅助沉积镀膜装置的离子源调整系统