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摘要：本发明提供一种增加Incell静电消散稳定性的ATO膜层制备方法，包括以下步骤：步骤一、对TFT白玻样片进行真空溅射镀膜，镀膜新ATO膜层；步骤二、对玻璃基板进行膜层特性以及阻值稳定性测试；步骤三、阻值稳定以及经时性测试通过后试做玻璃基板再确认静电消散能力；步骤四、镀膜完成后进行表观检验和装箱入库。本发明的新ATO膜层在基础膜层特性与普通ATO膜层保持一致的同时，可显著提升膜层硬度、膜层经时性和膜层阻值稳定性，膜层性能更好。
主权项：1.一种增加Incell静电消散稳定性的ATO膜层制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、对TFT白玻样片进行真空溅射镀膜，镀膜新ATO膜层；步骤二、对玻璃基板进行膜层特性以及阻值稳定性测试；步骤三、阻值稳定以及经时性测试通过后试做玻璃基板再确认静电消散能力；步骤四、镀膜完成后进行表观检验和装箱入库。
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百度查询： 芜湖长信科技股份有限公司 一种增加In cell静电消散稳定性的ATO膜层制备方法
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