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申请/专利权人：周星工程股份有限公司
摘要：本发明涉及一种基板处理设备，其包括：腔体；基板支撑部，用于在所述腔体的内部支撑基板；气体喷射部，包括朝向所述基板喷射第一工艺气体的多个第一喷射孔以及与所述多个第一喷射孔连通并且用于引入所述第一工艺气体的气体流入部；气体供应部，包括与所述气体流入部连接的气体供应连接部，用于将所述第一工艺气体供应至所述气体喷射部；以及密封部，用于保持所述气体流入部与所述气体供应连接部之间的气密性。
主权项：1.一种基板处理设备，其特征在于，包括：腔体；基板支撑部，用于在所述腔体的内部支撑基板；气体喷射部，包括朝向所述基板喷射第一工艺气体的多个第一喷射孔以及与所述多个第一喷射孔连通并且用于引入所述第一工艺气体的气体流入部；气体供应部，包括与所述气体流入部连接的气体供应连接部，用于将所述第一工艺气体供应至所述气体喷射部；以及密封部，用于保持所述气体流入部与所述气体供应连接部之间的气密性，其中，所述气体流入部包括插入于所述气体供应连接部的插入部，所述密封部设置在所述插入部的外侧以保持所述气体流入部与所述气体供应连接部之间的气密性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 周星工程股份有限公司 基板处理设备
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