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控制装置、光学系统、光刻设备和方法 

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申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

摘要:一种用于控制和测量致动器200的控制装置100,所述致动器200用于致动光学系统300的光学元件310,所述控制装置100具有:电压测量单元130,所述电压测量单元130用于提供指示基于特定模型M借助于激励信号yt控制的致动器200的时间相关电压u的测量电压U,所述激励信号yt包括用于测量所述致动器200的阻抗Z的至少一个正弦测量信号分量;电流测量单元140,所述电流测量单元140用于提供指示由激励信号yt控制的致动器200的时间相关电流i的测量电流I;第一匹配滤波器单元150,所述第一匹配滤波器单元150用于使用所提供的测量电压U和激励信号yt的特定模型M来估计在致动器200处产生的测量信号分量的电压幅度aU和相关相位φU;第二匹配滤波器单元160,用于使用所提供的测量电流I和激励信号yt的特定模型M来估计在致动器200处产生的测量信号分量的电流幅度aI和相关相位φI;以及计算单元170,其被配置为基于估计的电压幅度aU、估计的相关相位φU、估计的电流幅度aI和估计的相关相位φI来计算致动器200的阻抗Z。

主权项:1.一种用于控制和测量致动器200的控制装置100,所述致动器200用于致动光学系统300的光学元件310,所述控制装置100具有:电压测量单元130,用于提供测量电压U,所述测量电压U指示基于特定模型M借助于激励信号yt控制的所述致动器200的时间相关电压u,所述激励信号yt包括用于测量所述致动器200的阻抗Z的至少一个正弦测量信号分量,电流测量单元140,用于提供测量电流I,所述测量电流I指示借助于所述激励信号yt控制的所述致动器200的时间相关电流i,第一匹配滤波器单元150,用于使用所提供的测量电压U和所述激励信号yt的特定模型M来估计在所述致动器200处产生的测量信号分量的电压幅度aU和相关相位第二匹配滤波器单元160,用于使用所提供的测量电流I和所述激励信号yt的特定模型M来估计在所述致动器200处产生的测量信号分量的电流幅度aI和相关相位以及计算单元170,被配置为基于所估计的电压幅度aU、所估计的相关相位所估计的电流幅度aI和所估计的相关相位来计算所述致动器200的阻抗Z。

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