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彩膜基板及制作方法、显示装置 

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申请/专利权人:昆山龙腾光电股份有限公司

摘要:本发明公开了一种彩膜基板及制作方法、显示装置,制作方法包括:在衬底上形成第一色阻材料薄膜,对第一色阻材料薄膜进行图案化处理并形成与第一像素单元以及至少部分遮光区相对应的第一色阻层,第一色阻层在遮光区内设有贯穿第一色阻层的第一减薄槽;在衬底上形成第二色阻材料薄膜,对第二色阻材料薄膜进行图案化处理并形成与第二像素单元以及至少部分遮光区相对应的第二色阻层,第一色阻层与第二色阻层在遮光区具有相互重叠的部分。在遮光区采用至少两种色阻层相互重叠,以替代黑矩形,简化制作工艺;在制作第一色阻层过程中,第一色阻层在遮光区内设有贯穿第一色阻层的第一减薄槽,可以减小遮光区色阻重叠部分的厚度,以提高彩膜基板的平整度。

主权项:1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述彩膜基板具有透光区110以及将多个所述透光区110相互间隔开的遮光区120,所述透光区110内具有不同颜色的第一像素单元P1、第二像素单元P2以及第三像素单元P3,所述制作方法包括:提供衬底10;在所述衬底10上形成第一色阻材料薄膜,对所述第一色阻材料薄膜进行图案化处理并形成第一色阻层11,所述第一色阻层11与第一像素单元P1以及至少部分遮光区120相对应,所述第一色阻层11在所述遮光区120内设有贯穿所述第一色阻层11的第一减薄槽111;对图案化的所述第一色阻层11进行固化处理,在所述第一色阻层11固化之前,所述第一减薄槽111附近的第一色阻材料朝向所述第一减薄槽111流动并覆盖住所述第一减薄槽111;在所述衬底10上形成第二色阻材料薄膜,对所述第二色阻材料薄膜进行图案化处理并形成第二色阻层12,所述第二色阻层12与第二像素单元P2以及至少部分所述遮光区120相对应,所述第一色阻层11与所述第二色阻层12在所述遮光区120具有相互重叠的部分;对图案化的所述第二色阻层12进行固化处理;在所述衬底10上形成第三色阻材料薄膜,对所述第三色阻材料薄膜进行图案化处理并形成第三色阻层13,所述第三色阻层13至少与第三像素单元P3相对应;对图案化的所述第三色阻层13进行固化处理。

全文数据:

权利要求:

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