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申请/专利权人：上海工程技术大学
摘要：本发明属于曝光机设备的技术领域，公开了一种用于曝光机玻璃基板的表面温度稳定结构，包括底板，在所述底板的周边设置有多个夹持机构，在其中央设置有散热机构，这些夹持机构沿玻璃基板的长度方向、宽度方向均对称设置，用于对玻璃基板的周边进行自适应夹持，所述散热机构用于支撑玻璃基板的中央，使得玻璃基板与底板之间形成腔体，并对玻璃基板进行风冷散热，用于风冷散热的气体从底板的底面进入腔体，直接作用于玻璃基板的底面，再从腔体出去经由导流板引流作用于玻璃基板的顶面。
主权项：1.一种用于曝光机玻璃基板的表面温度稳定结构，其特征在于：包括底板，在所述底板的周边设置有多个夹持机构，在其中央设置有散热机构，这些夹持机构沿玻璃基板的长度方向、宽度方向均对称设置，用于对玻璃基板的周边进行自适应夹持，所述散热机构用于支撑玻璃基板的中央，使得玻璃基板与底板之间形成腔体，并对玻璃基板进行风冷散热，用于风冷散热的气体从底板的底面进入腔体，直接作用于玻璃基板的底面，再从腔体出去经由导流板引流作用于玻璃基板的顶面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海工程技术大学 一种用于曝光机玻璃基板的表面温度稳定结构
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