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集成式阻挡杂质带探测器及其制造方法 

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申请/专利权人:之江实验室

摘要:本申请涉及集成式阻挡杂质带探测器及其制造方法。该集成式阻挡杂质带探测器包括:超透镜阵列,用于聚光;阻挡杂质带探测结构,设置于超透镜阵列的出光侧,阻挡杂质带探测结构包括透光衬底、第一电极层、吸收层、阻挡层、第二电极层、钝化层及第一接触电极,其中,透光衬底、第一电极层、吸收层、阻挡层、第二电极层及钝化层沿背向超透镜阵列的方向依次层叠,第一接触电极贯穿钝化层并电连接于第二电极层;及超表面阵列,设置于吸收层且位于超透镜阵列的焦点处,用于实现表面等离子体共振。该探测器可以有效减少光学串音,能够提升器件的量子效率和整体光电性能。

主权项:1.集成式阻挡杂质带探测器,其特征在于,包括:超透镜阵列,用于聚光;阻挡杂质带探测结构,设置于所述超透镜阵列的出光侧,所述阻挡杂质带探测结构包括透光衬底、第一电极层、吸收层、阻挡层、第二电极层、钝化层及第一接触电极,其中,所述透光衬底、所述第一电极层、所述吸收层、所述阻挡层、所述第二电极层及所述钝化层沿背向所述超透镜阵列的方向依次层叠,所述第一接触电极贯穿所述钝化层并电连接于所述第二电极层;及超表面阵列,设置于所述吸收层且位于所述超透镜阵列的焦点处,所述超表面阵列用于实现表面等离子体共振。

全文数据:

权利要求:

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