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申请/专利权人：联盛半导体科技(无锡)有限公司
摘要：本实用新型公开了一种硅片清洗设备，涉及硅片清洗装置领域。所述硅片清洗设备包括机架、控制装置、若干硅片清洗花篮、抓取装置，机架上从左向右依次安装有清洗室、清洗花篮架输送机构、清洗花篮架存取槽，清洗花篮架存取槽与清洗花篮架输送机构之间设有烘干槽、超声波清洗槽；清洗花篮架存取槽内放置有硅片清洗花篮；通过将硅片清洗花篮送入超声波清洗槽、清洗室进行清洗并通过烘干槽进行烘干。本实用新型可在清洗室外进行超声波与处理后，快速水平将清洗花篮送入密闭的清洗室内，快速在清洗时室快速在不同清洗槽内转换，清洗完成后快速进行烘干，减少硅片表面氧化，提高产品质量。
主权项：1.一种硅片清洗设备，其特征在于：包括机架（1）、控制装置、若干硅片清洗花篮（5）、抓取装置，机架（1）上从左向右依次安装有清洗室（11）、清洗花篮架输送机构（6）、清洗花篮架存取槽（2），清洗花篮架存取槽（2）与清洗花篮架输送机构（6）之间设有烘干槽（13）、超声波清洗槽（14）；清洗花篮架存取槽（2）内放置有硅片清洗花篮（5）；抓取装置包括滑动块（16）、升降杆（17）、花篮提架（19）；机架顶端设有两相互平行的第一横向导轨（15），两第一横向导轨（15）与滑动块（16）相连，滑动块（16）上设有升降杆（17）、滑动块驱动装置（111），升降杆（17）与升降杆驱动装置（18）相连；升降杆（17）的底端设有花篮提架（19）；清洗室（11）的靠近清洗花篮架输送机构（6）侧壁上设有活动门（112），清洗室（11）上设有抽风机（113）；清洗室（11）内从左向右依次安装有酸洗槽（12）、转动纵轴（40）、水洗槽（10），转动纵轴（40）与摆动机构（4）相连，摆动机构（4）与硅片清洗花篮夹持架（3）相连；机架（1）上清洗室（11）右侧设有烘干槽（13）、超声波清洗槽（14）、清洗花篮架存取槽（2）；水洗槽（10）、烘干槽（13）、超声波清洗槽（14）、酸洗槽（12）、清洗花篮架存取槽（2）顶面平齐；烘干槽（13）、超声波清洗槽（14）、清洗花篮架存取槽（2）位于两第一横向导轨（15）下方。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 联盛半导体科技(无锡)有限公司 一种硅片清洗设备
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