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申请/专利权人：阿贝锐纳仪器有限公司
摘要：为了对试样的以荧光记号标记的结构进行高分辨率成像，以光强度分布加载试样，在光强度分布中，聚焦的荧光激发光的强度极大值与聚焦的荧光阻抑光的由一些强度极大值包围的强度极小值叠加成光强度分布。在此，以聚焦的荧光阻抑光的强度极小值选择性地扫描试样的感兴趣的部分区域，记录从所述试样发射的荧光以及将其与聚焦的荧光阻抑光的强度极小值在试样中的相应的位置相对应。对于聚焦的荧光阻抑光的强度极小值的相应的位置，当已记录从试样发射的荧光的预给定的最大光量时，和或，当在预给定的时间段之内还未记录从试样发射的荧光的预给定的最小光量时，至少中断试样的以光强度分布的聚焦的荧光阻抑光的加载。
主权项：1.一种用于对试样2的以荧光记号标记的结构41进行高分辨率成像的方法，其中，以包括聚焦的荧光激发光的强度极大值23的光强度分布22加载所述试样2，其中，以所述光强度分布22扫描所述试样2的感兴趣的部分区域38，其中，记录从所述试样2发射的荧光15并且将其与所述光强度分布22的相应的位置相对应，以及其中，当在预给定的时间段Δt2之内还未记录从所述试样2发射的荧光15的预给定的最小光量LM2时，至少中断所述试样2的以所述光强度分布22的一部分对于所述相应的位置的加载，其特征在于，在预给定的时间段Δt2之内已记录从所述试样2发射的荧光15的预给定的最小光量LM2的情况下，当在至少一个预给定的、比所述时间段Δt2更长的另外的时间段Δt3之内，还未记录从所述试样2发射的荧光15的、大于所述预给定的最小光量LM2的另外的预给定的最小光量LM3时，也至少中断所述试样2的以所述光强度分布22的一部分对于所述相应的位置的加载。
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权利要求：
百度查询： 阿贝锐纳仪器有限公司 用于对试样的以荧光记号标记的结构高分辨率成像的方法和设备
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