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申请/专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司
摘要：本发明涉及一种避免金属间电化学腐蚀效应的钨氮化钛蚀刻液，所述蚀刻液包括按质量百分比计的如下组分：双氧水10%‑30%，碱1‑5%，表面活性剂1%‑5%、电化学腐蚀抑制剂0.1%‑2%，余量为去离子水。电化学腐蚀抑制剂可以显著降低钨层与钛氮化钛层之间的电化学腐蚀反应电位，抑制钨层与钛氮化钛层之间的的腐蚀电流，使两金属层之间存在的电化学腐蚀减弱。同时表面活性剂可以调节蚀刻液与不同膜层之间的浸润、接触性。确保各膜层被完全蚀刻，避免出现金属拖尾等现象，影响后续的制程。本发明中可避免金属间电化学腐蚀效应的钨氮化钛蚀刻液较普通蚀刻液可显著降低金属钨层与钛氮化钛层间的电化学腐蚀效应，同时也能维持稳定的蚀刻速率和寿命。
主权项：1.一种避免金属间电化学腐蚀效应的钨氮化钛蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液包括按质量百分比计的如下组分：双氧水10%~30%，碱1%~5%，表面活性剂1%~5%、电化学腐蚀抑制剂0.1%~2%，余量为去离子水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖北兴福电子材料股份有限公司 一种避免金属间电化学腐蚀效应的钨/氮化钛蚀刻液
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