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具有多孔层的半导体元件 

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申请/专利权人:南亚科技股份有限公司

摘要:本公开涉及一种半导体元件及其制备方法。该半导体元件包括一基底,其包括一混合区与一非混合区;一底部多孔介电层,其设置于该基底上;一顶部多孔介电层,其设置于该底部多孔介电层上;一中间多孔介电层,其设置于该混合区的上方,并设置于该底部多孔介电层与该顶部多孔介电层之间;一混合区导电结构,其沿着该顶部多孔介电层、该中间多孔介电层与该底部多孔介电层设置,并设置于该基底的该混合区上;一非混合区导电结构,沿着该顶部多孔介电层与该底部多孔介电层设置,并设置于该基底的该非混合区上。该顶部多孔介电层的孔隙率大于该中间多孔介电层的孔隙率。该中间多孔介电层的孔隙率大于该底部多孔介电层的孔隙率。

主权项:1.一种半导体元件,包括:一基底,包括一混合区与一非混合区;一底部多孔介电层,设置于该基底上;一顶部多孔介电层,设置于该底部多孔介电层上;一中间多孔介电层,设置于该混合区的上方,并设置于该底部多孔介电层与该顶部多孔介电层之间;一混合区导电结构,沿着该顶部多孔介电层、该中间多孔介电层与该底部多孔介电层设置,并设置于该基底的该混合区上;以及一非混合区导电结构,沿着该顶部多孔介电层与该底部多孔介电层设置,并设置于该基底的该非混合区上,其中该顶部多孔介电层的孔隙率大于该中间多孔介电层的孔隙率,其中该中间多孔介电层的孔隙率大于该底部多孔介电层的孔隙率。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 南亚科技股份有限公司 具有多孔层的半导体元件

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