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申请/专利权人:上海隐冠半导体技术有限公司
摘要:本实用新型涉及光刻机技术领域,公开一种调平辅助装置及光刻机。其中调平辅助装置包括掩模台、垂向驱动组件和至少三个调平组件。掩模台用于放置掩模板,掩模台上设置有一容置孔和至少三个安装槽,三个安装槽环设于容置孔,且安装槽沿容置孔径向延伸,掩模板放置于容置孔上方;一个调平组件安装于一个安装槽内,调平组件包括簧片和调节球,簧片的第一端连接至安装槽内,簧片的第二端连接有调节球,调节球位于容置孔内;垂向驱动组件设置于掩模台下方,用于驱动基底升降,以使基底抵接于调节球的下端点,掩模板抵接于调节球的上端点。本实用新型实现基底被动调平,提高了光刻的加工质量,该调平辅助装置具有结构简单、成本低、操作方便的优点。
主权项:1.一种调平辅助装置,用于将基底和掩模板调节至平行状态,其特征在于,包括:掩模台1,用于放置掩模板,所述掩模台1上设置有一容置孔11和至少三个安装槽12,三个所述安装槽12环设于所述容置孔11,且所述安装槽12沿所述容置孔11径向延伸,所述掩模板放置于所述容置孔11上方;至少三个调平组件2,一个所述调平组件2安装于一个所述安装槽12内,所述调平组件2包括簧片21和调节球22,所述簧片21的第一端连接至所述安装槽12内,所述簧片21的第二端连接有所述调节球22,所述调节球22位于所述容置孔11内;垂向驱动组件,设置于所述掩模台1下方,用于驱动所述基底升降,以使所述基底抵接于所述调节球22的下端点,所述掩模板抵接于所述调节球22的上端点。
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百度查询: 上海隐冠半导体技术有限公司 一种调平辅助装置及光刻机
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