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申请/专利权人：杭州新诺微电子有限公司
摘要：本申请涉及一种PCB阻焊曝光设备及其光源单元，包括光输出装置、聚焦装置与照明装置，光输出装置发出的光依次经过聚焦装置与照明装置后，通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至待曝光基板上；光输出装置用于输出初始光信号；聚焦装置用于接收初始光信号并进行汇聚准直处理，输出汇聚后的光信号；照明装置用于接收汇聚后的光信号并进行匀光整形处理，输出匀光整形后的光信号；其中，匀光整形后的光信号用于完成待曝光基板的PCB阻焊层曝光。原本发散的光极大程度的变为可利用的能量，得到光斑面积符合投影单元工作范围的光信号照射至待曝光基板上，促使其阻焊层完成聚合固化，使得所需的曝光时长与功耗大大降低，减少了光照与能耗上的资源浪费。
主权项：1.一种PCB阻焊曝光设备的光源单元，其特征在于，包括：光输出装置、聚焦装置与照明装置，所述光输出装置发出的光依次经过所述聚焦装置与所述照明装置后，通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至待曝光基板上；所述光输出装置还包括光源控制器；所述光输出装置用于输出初始光信号；所述聚焦装置用于接收所述初始光信号并进行汇聚准直处理，输出汇聚后的光信号；所述照明装置用于接收所述汇聚后的光信号并进行匀光整形处理，输出匀光整形后的光信号；其中，所述匀光整形后的光信号用于完成所述待曝光基板的PCB阻焊层曝光；所述聚焦装置包括第一耦合透镜与第二耦合透镜，所述光输出装置输出的所述初始光信号依次经过所述第一耦合透镜与所述第二耦合透镜后，输出所述汇聚后的光信号至所述照明装置；所述第一耦合透镜为平凸透镜，所述第二耦合透镜为凸透镜；所述平凸透镜的面积大于所述光输出装置的面积；所述光源控制器用于调节所述第一耦合透镜与所述第二耦合透镜之间的间距，以使光源单元输出的匀光整形后的光信号光斑面积不大于所述投影单元的工作范围。
全文数据：
权利要求：
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