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申请/专利权人:无锡松煜科技有限公司
摘要:本发明涉及碳纳米管生产技术领域,公开了一种高纯度单壁碳纳米管的制备方法。现有技术中,以化学气相沉积法制备碳纳米管,难以制备得到单壁碳纳米管,得到的产物中含有较高含量的杂质。经过多次实验,本发明研究人员发现,当立式CVD反应炉中进行生长放映,沿着反应炉顶部至底部方向,将碳源进气口设置在反应炉的15至12炉长位置处,能生长得到杂质含量较少的单壁碳纳米管。基于上述发现,本发明人员对CVD法制备单壁碳纳米管的进气方式及进气位置进行了优化,由此提出了本发明。
主权项:1.一种高纯度单壁碳纳米管的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:S1、提供立式CVD反应炉,并将催化剂置于反应炉中;S2、提供用于向反应炉喷射碳源的喷枪,以反应炉的高度计,沿着反应炉顶部至底部方向,使喷枪出口的末端位于反应炉的15至12位置处;S3、将反应炉升温至800~1200℃,待温度稳定后,通过喷枪向反应炉通入碳源,收集黑色粉末,即为单壁碳纳米管;其中:喷枪出口为倒圆台型管道,其截面为上宽下窄的梯形;喷枪出口的数量为2~5;碳源的进气速率为5~10Lh;步骤S3中,使用惰性气体作为载气通入碳源,载气的流量为600~1000sccm;步骤S3中,待温度稳定后,还向反应炉中通入氢气,流量为150~300sccm。
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