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申请/专利权人：南开大学
摘要：一种折射率渐变特性的减反射膜的制备方法。本发明开发了一种折射率渐变特性的nc‑SiOx:H减反射膜，通过调整反应气体中CO2流量来调整nc‑SiOx:H中Si、O的比例，即x的值0x≤2来实现折射率的梯度变化，可以实现全光谱范围的有效减反，解决了传统减反射膜对于太阳光谱入射角度和吸收层材料厚度的依赖性。另一方面，该减反射膜采用低温、低功率沉积，有效减少了等离子体中带电粒子对吸收层的轰击，在兼顾材料宽带隙、高透明度的同时，通过折射率渐变结构降低光学反射，因此成为硅基叠层电池减反射膜的理想选择。
主权项：1.一种折射率渐变特性的减反射膜的制备方法，其特征在于，通过调整反应气体中CO2流量来调整nc-SiOx:H中Si、O的比例，即x值来实现折射率的梯度变化，实现全光谱范围的有效减反，具体包括以下步骤：1将硅基叠层太阳电池样品放入高真空沉积设备中，表面温度为50-300℃，本底真空度10-5-10-9Pa，通入反应气体，反应气体压强为0.5-5Torr，在辉光功率密度为0.01-0.1Wcm2条件下辉光沉积nc-SiOx:H减反射膜；2将反应气体中CO2流量按照：Gt＝G0+At通入，其中Gt为CO2流量，G0为CO2初始流量，A为线性变化速率，t为辉光时间；CO2流量从1sccm逐渐上升至50sccm；所述反应气体包括：源气体为硅烷类SiH4、Si2H6或Si3H8；稀释气体为H2、He或Ar；掺杂气体为CO2、PH3、B2H6或BCH33；稀释气体与源气体的流量之比为50-500∶1；3最终辉光沉积单层减反射薄膜的厚度为2-20nm，总厚度为20-200nm的多层nc-SiOx:H减反射膜，其中0x≤2；折射率在薄膜纵向渐进式变化，在600nm波长处变化范围为4-1.5。
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