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申请/专利权人：株式会社尼康
摘要：曝光方法包括：利用使用掩膜的曝光装置，以经由了第1掩膜的曝光光在基板上的多个图案形成区域各自的第1区域形成第1曝光图案，在所述图案形成区域的每一个中，以经由了第2掩膜的曝光光在与所述第1区域分离的第2区域形成第2曝光图案；以及使用利用基于来自曝光图案决定部的输出对曝光光进行调制的空间光调制器的曝光装置，在所述图案形成区域的每一个中，以经由了所述空间光调制器的曝光光在所述第1区域与所述第2区域之间形成基于所述第1曝光图案以及所述第2曝光图案的位置决定的曝光图案。
主权项：1.一种曝光方法，其包括：利用使用掩膜的曝光装置，以经由了第1掩膜的曝光光在基板上的多个图案形成区域各自的第1区域形成第1曝光图案，在所述图案形成区域的每一个中，以经由了第2掩膜的曝光光在与所述第1区域分离的第2区域形成第2曝光图案；以及使用利用基于来自曝光图案决定部的输出对曝光光进行调制的空间光调制器的曝光装置，在所述图案形成区域的每一个中，以经由了所述空间光调制器的曝光光在所述第1区域与所述第2区域之间形成基于所述第1曝光图案以及所述第2曝光图案的位置决定的曝光图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社尼康 曝光方法、器件制造方法、曝光装置、以及曝光系统
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