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申请/专利权人：杭州电子科技大学
摘要：本发明公开了一种用于SiC的可见光芬顿‑化学机械抛光液、制备方法及抛光方法，抛光液包括以下重量百分比的组分：0.02wt％～0.1wt％的MIL‑125Ti、1wt％～5wt％的过氧化氢、15wt％～30wt％的磨料、0.1wt％～0.5wt％的碳酸钠、0.1wt％～0.5wt％的分散剂以及余量为去离子水。本发明通过采用MIL‑125Ti，并辅以可见光光源辐照，能够高效催化H2O2产生大量具有超越高氧化还原电势的*OH，从而实现*OH的原位产生及对SiC的高效率氧化，且产生*OH不会发生淬灭，可极大提高*OH的利用率，具有抛光效率高，表面缺陷少等优点，有效满足了SiC表面抛光质量要求。
主权项：1.一种用于SiC的可见光芬顿-化学机械抛光液，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：0.02wt％～0.1wt％的MIL-125Ti、1wt％～5wt％的过氧化氢、15wt％～30wt％的磨料、0.1wt％～0.5wt％的碳酸钠、0.1wt％～0.5wt％的分散剂以及余量为去离子水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州电子科技大学 一种用于SiC的可见光芬顿-化学机械抛光液、制备方法及抛光方法
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