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申请/专利权人：杭州电子科技大学
摘要：本发明公开了一种压敏化学机械抛光液及其制备方法和抛光方法，抛光液包括以下重量百分比的组分：2wt％～10wt％的负载型高分子纳米粒、10wt％～30wt％的磨料、1wt％～3wt％的过氧化氢、0.1wt％～0.5wt％的碳酸钠以及余量为去离子水。本发明的抛光液通过采用负载型高分子纳米粒，以具有弹性的丙烯腈‑苯乙烯共聚衍生物为载体，该载体上负载铁元素，应用于对硅晶圆化学机械抛光中，可在化学机械抛光压力下释放出活性的铁元素，催化磨料和晶圆发生界面芬顿反应，将过氧化氢转化为*OH，提高过氧化氢的利用率和*OH的氧化效率，实现高抛光去除率。
主权项：1.一种压敏化学机械抛光液，其特征在于，所述压敏化学机械抛光液包括以下重量百分比的组分：2wt％～10wt％的负载型高分子纳米粒、10wt％～30wt％的磨料、1wt％～3wt％的过氧化氢、0.1wt％～0.5wt％的碳酸钠以及余量为去离子水；所述负载型高分子纳米粒包括丙烯腈-苯乙烯共聚衍生物载体以及负载于所述丙烯腈-苯乙烯共聚衍生物载体上的铁元素。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 杭州电子科技大学 一种压敏化学机械抛光液及其制备方法和抛光方法
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