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一种激光MEMS器件及其制备方法 

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申请/专利权人:华南师范大学

摘要:本发明涉及一种激光MEMS微电子机械系统器件及制备方法,包括层叠于衬底上的外延结构和P型电极,器件的中心区域形成延伸至N掺杂GaN层与牺牲层邻接的表面的第一内腔,牺牲层中设置有与第一内腔连通的第二内腔,器件的外侧区域设置有延伸至N掺杂GaN层中一定深度的第一外腔,第二外腔沿第一内腔的底部延伸至牺牲层与缓冲层邻接的表面,形成具有悬浮的回音壁WGM型微腔结构;本发明利用悬浮WGM型微腔,获得光增益,提高激光的出射和电光转化效率,提升激光器件性能的稳定性,实现声波的高灵敏检测以及声音或压力信号的精准识别;本发明的制备方法简单、操作简便、成本低廉、工艺兼容度高,器件体积小、成本低、寿命长。

主权项:1.一种激光MEMS器件,其特征在于,包括衬底,设置于衬底上的外延结构,和设置于外延结构上的P型电极,该外延结构包括依次层叠的缓冲层、牺牲层、N掺杂GaN层、下电子阻挡层N-CL、下光学限制层N-WG、量子阱层、上光学限制层U-WG、上电子阻挡层P-CL和P掺杂GaN层;位于该器件上表面中心区域的、呈柱状的第一内腔,沿P型电极的上表面延伸至外延结构中N掺杂GaN层与牺牲层邻接的表面;呈柱状的、与所述第一内腔连通的第二内腔,沿牺牲层与N掺杂GaN层邻接的表面延伸至牺牲层与缓冲层邻接的表面,所述第二内腔的直径大于所述第一内腔的直径;沿该器件上表面外侧区域布置的、呈环状的第一外腔,其沿P型电极的上表面延伸至外延结构的N掺杂GaN层中一定深度,形成该N掺杂GaN层的裸露面,该第一外腔暴露外延结构的侧壁,该N掺杂GaN层的裸露面上设置有N型电极;呈环状的、与所述第一外腔连通的第二外腔,沿该N掺杂GaN层的裸露面的N型电极的外侧区域延伸至牺牲层与缓冲层邻接的表面,第二外腔的内径大于第一外腔的内径;沿平行于衬底表面的方向上,所述第二外腔和所述第二内腔之间间隔所述牺牲层。

全文数据:

权利要求:

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