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申请/专利权人：有研国晶辉新材料有限公司
摘要：本发明涉及电磁屏蔽材料技术领域，具体公开了一种曲面金属网栅电磁屏蔽光学窗口及其制备方法和应用。本发明采用变速激光直写的方式进行扫描曝光，提高了不同胶厚区域的线宽均匀性；同时以金属铝为金属屏蔽材料，采用碱性溶液对其进行显影刻蚀，成功制备了具有高线宽均匀性的曲面金属网栅电磁屏蔽光学窗口。利用本发明有效解决了现有技术中曲面金属网栅的制备工艺中存在光刻胶涂覆不均匀导致的线宽均匀性和透过率差，金属薄膜剥离困难以及金属刻蚀液会对金属光学窗口造成腐蚀的问题，制备出的金属网栅窗口兼顾了高透过率和优越的电磁屏蔽性能。
主权项：1.一种曲面金属网栅电磁屏蔽光学窗口的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一、采用低沸点混合溶剂对曲面光学窗口进行清洗，干燥，得一次处理曲面光学窗口；步骤二、在所述一次处理曲面光学窗口表面依次形成金属铝膜、粘附促进剂层和负性光刻胶层，得待曝光样品；步骤三、测试所述待曝光样品不同区域的光刻胶厚度，根据光刻胶厚度确定激光直写扫描速率，采用变速激光直写的方式对所述待曝光样品进行扫描，得曝光后样品；步骤四、将所述曝光后样品浸渍于强碱溶液中进行显影刻蚀，洗涤，干燥，得曲面金属网栅电磁屏蔽光学窗口；步骤三中，当光刻胶厚度为3.0μm-5.0μm时，所述激光直写扫描速率为3.5mms-9.5mms；当光刻胶厚度为5.0μm-7.5μm时，所述激光直写扫描速率为2.0mms-7.0mms；当光刻胶厚度为7.5μm-9.0μm时，所述激光直写扫描速率为1.0mms-4.0mms。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 有研国晶辉新材料有限公司 一种曲面金属网栅电磁屏蔽光学窗口及其制备方法和应用
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