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一种多组分增光剂除杂工艺方法 

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申请/专利权人:浙江尚辰化工有限公司

摘要:本发明提供了一种多组分增光剂除杂工艺方法,属于超滤膜除杂技术领域,包括步骤:S1、采用3‑氨丙基三乙氧基硅烷对纳米SiO2进行改性处理,得改性纳米SiO2;S2、按重量份数计,将10份的S1所得改性纳米SiO2分散在35‑50份的去离子水中,得分散粒子液;S3、采用亲水改性超滤膜对S2所得分散粒子液进行过滤,拦截未被改性的纳米SiO2,得除杂粒子液;S4、对S3所得除杂粒子液离心分离,真空干燥,得纯化改性SiO2;S5、按重量份数计,将1‑2份的氧化剂、2‑3份的稳定剂、2‑3份的螯合剂、10‑15份的润湿剂、28‑35份的去离子水和30份的S4所得纯化改性SiO2混匀,即得多组分增光剂。本发明通过对纳米颗粒表面改性处理及针对性地过滤除杂,协同降低团聚现象,提高抛光效率。

主权项:1.一种多组分增光剂除杂工艺方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、采用3-氨丙基三乙氧基硅烷对纳米SiO2进行改性处理,制得改性纳米SiO2;S2、按重量份数计,将10份的S1所得改性纳米SiO2分散在35-50份的去离子水中,得分散粒子液;S3、采用亲水改性超滤膜对S2所得分散粒子液进行过滤,拦截未被改性的纳米SiO2,得除杂粒子液;S4、对S3所得除杂粒子液离心分离,真空干燥,得纯化改性SiO2;S5、按重量份数计,将1-2份的氧化剂、2-3份的稳定剂、2-3份的螯合剂、10-15份的润湿剂、28-35份的去离子水和30份的S4所得纯化改性SiO2混匀,即得多组分增光剂;所述改性纳米SiO2的具体制备步骤如下:A1、将40g的纳米SiO2加入到1000mL甲苯中,常温下超声分散30min,得悬浮液;A2、将18.2g的3-氨丙基三乙氧基硅烷加入到A1所得悬浮液中,常温下超声分散5min,得分散液;A3、将A2所得分散液转入恒温槽,90℃恒温反应6h,得反应液;A4、常温下,对A3所得反应液离心分离,真空干燥,即得改性纳米SiO2;所述亲水改性超滤膜的制备方法如下:B1、按重量份数计,将聚砜15-25份、N,N-二甲基乙酰胺70-80份、聚乙烯吡咯烷酮3-5份和丙烯酰胺4-7份混合,在60℃下机械搅拌6-8h,得亲水铸膜液;B2、将B1所得亲水铸膜液在室温下静置脱泡24h,倾倒在玻璃板上,用刮刀匀速刮成厚度均一的液态膜,然后迅速放入去离子水凝固浴中,待膜层完全自主脱离玻璃板,即得亲水改性超滤膜;所述氧化剂采用双氧水,所述稳定剂采用氯化亚铁,所述螯合剂包括乙二胺四乙酸和或氮川三乙酸,所述润湿剂包括硬脂酸和丙酮。

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