龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本公开内容涉及预备空间光调制器区段以解决场不均匀性。本公开内容的实施方式总体提供使用数字微镜装置DMD的改进的光刻系统和方法。DMD包括与基板相对设置的微镜的列和行。光束从微镜反射至基板上，产生图案化基板。微镜的列和行的某些子集可定位至“关闭”位置，使得这些子集废弃光，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的大的特征。类似地，微镜的列和行的某些子集可默认为“关闭”位置并且选择性地允许这些子集返回到它们的编程位置，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的小的特征。
主权项：1.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：使用所述数字微镜装置扫描所述基板；评估所述基板的均匀性，所述评估所述基板的所述均匀性的步骤包括评估所述基板的一个或多个特征的一个或多个尺寸；识别所述基板的不均匀区域；指定所述微镜的至少一个微镜以用于衰减；和关闭所述至少一个微镜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 预备空间光调制器区段以解决场不均匀性
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号