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一种曝光控制方法、装置、设备及介质 

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申请/专利权人:明峰医疗系统股份有限公司

摘要:本发明提供了一种曝光控制方法、装置、设备及介质,涉及数据处理技术领域,包括:根据定位片建立目标位置对应的等效椭圆水模,以计算平均管电流;获取所述等效椭圆水模的长轴长度和短轴长度,并根据所述长轴长度和所述短轴长度的差值建立第一关系函数确定管电流比值参数;建立目标位置下沿所述等效椭圆水模各个方向的目标管电流相对所述管电流比值参数和所述平均管电流变化的第二关系函数;根据所述第二关系函数、所述平均管电流和所述管电流比例参数确定各个方向下的目标管电流,以进行曝光辐射剂量控制,解决现有曝光控制在根据对应椭圆形水模长轴和短轴长度比确定管电流大小,导致输出图像质量不够高的问题。

主权项:1.一种曝光控制方法,其特征在于,包括:根据定位片建立目标位置对应的等效椭圆水模,以计算平均管电流;获取所述等效椭圆水模的长轴长度和短轴长度,并根据所述长轴长度和所述短轴长度的差值建立第一关系函数确定管电流比值参数;建立目标位置下沿所述等效椭圆水模各个方向的目标管电流相对所述管电流比值参数和所述平均管电流变化的第二关系函数;根据所述第二关系函数、所述平均管电流和所述管电流比例参数确定各个方向下的目标管电流,以进行曝光辐射剂量控制。

全文数据:

权利要求:

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