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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明提供一种能够简便地评估基准标记的加工精度例如深度的EUV掩膜坯料的评估方法。一种形成于EUV掩膜坯料的基准标记的评估方法，拍摄形成于所述EUV掩膜坯料的基准标记并获取基准标记图像，根据该获取到的基准标记图像获取作为所述基准标记与背景水平的对比度的基准标记对比度，通过该获取到的基准标记对比度评估所述基准标记的加工精度。
主权项：1.一种形成于EUV掩膜坯料的基准标记的评估方法，其特征在于，拍摄形成于所述EUV掩膜坯料的基准标记并获取基准标记图像，根据该获取到的基准标记图像获取作为所述基准标记与背景水平的对比度的基准标记对比度，通过该获取到的基准标记对比度评估所述基准标记的加工精度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 形成于EUV掩膜坯料的基准标记的评估方法
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