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申请/专利权人：上海精测半导体技术有限公司
摘要：本发明涉及一种光声测量的建模方法、光声测量方法及系统，其建模方法包括获取待测样品的特性参数，所述特性参数包括膜层数M、各膜层的复折射率和名义厚度，M为正整数；根据所述特性参数，计算得到所述待测样品的第一反射率；获取所述待测样品在吸收激发光后于厚度方向上各膜层的位移；根据所述位移，得到所述待测样品的第二反射率；基于所述第一反射率和所述第二反射率，得到所述待测样品的反射率变化的仿真信号。本发明提出了基于应变后的样品分层模型和RCWA算法，来计算膜厚；适用于任意入射角的探测光的同时，提高了计算效率和准确率。
主权项：1.一种光声测量的建模方法，其特征在于，包括：获取待测样品的特性参数，所述特性参数包括膜层数M、各膜层的复折射率和名义厚度，M为正整数；根据所述特性参数，计算得到所述待测样品的第一反射率；获取所述待测样品在吸收激发光后于厚度方向上各膜层的位移；根据所述位移，得到所述待测样品的第二反射率：将所述待测样品的各膜层分别划分为多个分层，并得到每个所述分层的厚度；基于所述位移获取每个所述分层的应变值，根据每个所述分层的应变值，得到每个所述分层的复折射率；基于每个所述分层的复折射率，得到所述待测样品的第二反射率；基于所述第一反射率和所述第二反射率，得到所述待测样品的反射率变化的仿真信号。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海精测半导体技术有限公司 一种光声测量的建模方法、光声测量方法及系统
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