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申请/专利权人：北京军通新材科技有限公司
摘要：一种短波近红外宽带增透膜及其制备方法，所述增透膜是沉积于光学玻璃基体上的双面沉积增透膜，由不等厚的五层薄膜层构成，从光学玻璃基体表面依次向外为Al2O3薄膜层、ZrO2薄膜层、Al2O3薄膜层、ZrO2薄膜层、MgF2薄膜层。本发明方法制备出的短波近红外宽带增透膜克服了光学玻璃在增透能力上的不足，减少了光能量的反射损失，同时提高了增透宽带，在0.65‑1.05μm之间的平均透过率为99.12%，最小透过率为98.47%，跨越了可见光波段及近红外波段；同时进一步解决了膜层遇潮易结晶的问题，具有良好的防潮性，不易出现膜下雾斑。
主权项：1.一种短波近红外宽带增透膜的制备方法，其特征在于，所述增透膜是沉积于光学玻璃基体上的双面沉积增透膜，由几何厚度不相等五层非均匀薄膜层构成，从光学玻璃基体表面依次向外为Al2O3薄膜层、ZrO2薄膜层、Al2O3薄膜层、ZrO2薄膜层、MgF2薄膜层；所述制备方法按如下步骤进行：S1、蒸镀前处理选取折射率为1.49-1.58的光学玻璃为基体，依次使用乙醇、乙醚混合物和去离子水进行超声清洗，干燥后装入真空室夹盘内，进行烘烤预热，待玻璃基体温度达到260℃时进行保温，并将真空度抽至4×10-3Pa，将Al2O3、ZrO2、MgF2膜料进行预熔；S2、电子束蒸发法制备Al2O3薄膜层和ZrO2薄膜层保持真空室内环境依旧为4×10-3Pa的真空度，以及玻璃基体温度为260℃，蒸发Al2O3材料，沉积速率为0.3-0.4nms，然后再蒸发ZrO2材料，沉积速率为0.28-0.30nms，然后保持真空室内环境参数不变，重复上述S2流程一遍，所述蒸镀四个膜层从玻璃基体表面依次向外，厚度分别为125nm、81nm、23nm、79nm；S3、电子束蒸发法制备MgF2薄膜层与S2中相同参数环境下，进行MgF2薄膜层，沉积速率为0.36-0.40nms，膜层厚度为147nm。
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