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申请/专利权人：株式会社理学
摘要：本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸；分光元件，其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点，且具有沿所述照射方向弯曲的面；及检测器，其沿所述正交的方向排列多个而配置，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。
主权项：1.一种全反射荧光X射线分析装置，其特征在于，具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述X射线照射方向的尺寸；分光元件，其与所述试样表面平行且与所述X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述电子束焦点的有效宽度，且在包含所述X射线照射方向的与所述试样表面垂直的面内，具有弯曲的剖面；以及检测器，其朝所述试样表面沿与所述X射线照射方向正交的方向上排列配置多个，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社理学 全反射荧光X射线分析装置
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