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湿法刻蚀时所用的挡板 

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申请/专利权人:上海华力集成电路制造有限公司

摘要:本发明提供一种湿法刻蚀时所用的挡板,包括:防反溅结构,其包括:内置竖直板,所述内置竖直板竖直设置于所述晶圆的一侧,且与所述晶圆之间具有间距;第一开口,所述第一开口贯穿所述内置竖直板,其设置在从所述晶圆表面甩出的刻蚀液的运动轨迹上,使得刻蚀液从所述第一开口穿过;水平板,所述水平板的第一端固定设置在所述内置竖直板远离所述晶圆的一侧,其高度低于所述第一开口所在位置;倾斜板,所述倾斜板的第一端固定设置在所述水平板的第二端,其呈斜坡结构;弧形板,所述弧形板的一端固定设置在所述倾斜板的第二端上,其呈弧形结构,且所述弧形结构的开口朝下。通过本发明解决了现有的刻蚀液飞溅的问题。

主权项:1.一种湿法刻蚀时所用的挡板,其特征在于,所述挡板设置于晶圆的外围,包括:用于对从所述晶圆甩出的刻蚀液进行减速的防反溅结构,所述防反溅结构包括:内置竖直板,所述内置竖直板竖直设置于所述晶圆的一侧,且与所述晶圆之间具有间距;第一开口,所述第一开口贯穿所述内置竖直板,其设置在从所述晶圆表面甩出的刻蚀液的运动轨迹上,使得刻蚀液从所述第一开口穿过;水平板,所述水平板的第一端固定设置在所述内置竖直板远离所述晶圆的一侧,其高度低于所述第一开口所在位置;倾斜板,所述倾斜板的第一端固定设置在所述水平板的第二端,其呈斜坡结构;弧形板,所述弧形板的一端固定设置在所述倾斜板的第二端上,其呈弧形结构,且所述弧形结构的开口朝下。

全文数据:

权利要求:

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