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一种高吸收率的薄膜电池组件及其制作方法 

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申请/专利权人:亚玛顿(石家庄)新材料有限公司

摘要:本发明公开一种高吸收率的薄膜电池组件及其制作方法,包括层叠的前玻、钙钛矿电池层、封装层及背玻;钙钛矿电池层包括第一透明导电层、第一传输层、钙钛矿吸收层、缓冲层、第二传输层及第二透明导电层;第一透明导电层设于前玻入光面的相对侧其折射率为1.7~1.85;钙钛矿吸收层折射率为2.5~2.7;第一透明导电层厚度设为160~170nm,钙钛矿吸收层厚度为500~650nm;第一透明导电层厚度设为171~200nm,钙钛矿吸收层厚度为400~600nm;第一透明导电层厚度设为201~210nm,钙钛矿吸收层厚度为500~750nm;第一透明导电层厚度设为211~220nm,钙钛矿吸收层厚度为600~850nm。

主权项:1.一种高吸收率的薄膜电池组件,其特征在于,所述的薄膜电池组件包括依次层叠设置的前玻1、钙钛矿电池层2、封装层3以及背玻4,且所述的钙钛矿电池层2层叠设置于所述前玻1入光面的相对侧;所述薄膜电池组件的吸收率>90%;所述的钙钛矿电池层2由第一透明导电层21、第一传输层22、钙钛矿吸收层23、缓冲层24、第二传输层25以及第二透明导电层26依次层叠而成;所述的第一透明导电层21设置于所述前玻1入光面的相对侧,所述第一透明导电层21的折射率设置为1.7~1.85;所述钙钛矿吸收层23的折射率设置为2.5~2.7;其中,所述第一透明导电层21的厚度设置为160~170nm时,所述钙钛矿吸收层23的厚度设置为500~650nm;所述第一透明导电层21的厚度设置为171~200nm时,所述钙钛矿吸收层23的厚度设置为400~600nm;所述第一透明导电层21的厚度设置为201~210nm时,所述钙钛矿吸收层23的厚度设置为500~750nm;所述第一透明导电层21的厚度设置为211~220nm时,所述钙钛矿吸收层23的厚度设置为600~850nm。

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权利要求:

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