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一种MoO2纳米颗粒弥散在MoO2纳米片上的合成方法 

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申请/专利权人:三峡大学

摘要:本发明公开了一种MoO2纳米颗粒弥散在MoO2纳米片上的合成方法,属于纳米材料制备领域。本发明采用一步低温热还原技术,将含有氧缺陷的MoO3‑x纳米片及次磷酸钠在惰性气体(氩气、氮气)中热处理得到MoO2纳米颗粒弥散在纳米片上的材料。本发明采用一步法制备到MoO2纳米材料,次磷酸钠作为还原剂,比现有的高温热处法简单、经济环保,适用于批量生产。同时,所得的MoO2纳米是MoO2纳米颗粒弥散分布在MoO2纳米片的表面,纳米颗粒具有较好的分散性及较大的比表面积,在电池和光、电催化领域具有良好的应用前景。

主权项:1.MoO2纳米颗粒弥散在MoO2纳米片上的复合材料的合成方法,其特征在于,包括以下步骤:将一定量的富含氧缺陷的MoO3-x纳米片与次磷酸钠按照比例和位置放置在通有惰性气体的管式炉中,次磷酸钠位于气体的上方,然后加热还原得到MoO2纳米材料;所述MoO2为纳米颗粒弥散分布在纳米片表面;所述MoO2纳米颗粒的直径为20-300nm;所述MoO2纳米片的厚度为20-100nm,宽度为400-500nm。

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权利要求:

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