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申请/专利权人：FEI公司
摘要：本公开涉及为了减少电子显微镜法中的充电伪影，可以围绕样本表面定位可溅射材料的凹口环。可以将离子束引导通过凹口以将可溅射材料溅射到样本表面上。可以在同一样本倾斜处进行低角度聚焦离子束FIB研磨之后执行溅射。可以使样本围绕轴线旋转并且以多个旋转角度执行溅射。在溅射导电涂层后，可以对样本进行重新取向和成像。可以重复这些步骤，以产生用于3D图像重建的2D图像堆栈。
主权项：1.一种溅射靶，所述溅射靶用于在带电粒子束仪器中被定位用于带电粒子束研磨的样本，所述溅射靶包括：导电材料，所述导电材料限定适于在样本表面处接收所述样本的内腔室，所述导电材料限定至少一个窗口，所述至少一个窗口向定位在所述CPB仪器中的样本表面提供掠射角CPB处理路径；和可溅射材料，所述可溅射材料定位成与所述至少一个窗口相对以限定通过所述至少一个窗口到达所述可溅射材料的CPB溅射路径。
全文数据：
权利要求：
百度查询： FEI公司 用于低温电子显微镜法应用中的样本制备的锯齿状样本保持器和溅射靶
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