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一种新型Ge上PtSe2薄膜的制备方法 

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申请/专利权人:闽南师范大学

摘要:本发明涉及一种新型Ge上PtSe2薄膜的制备方法,属于化学气相沉积法制备新型二维纳米材料领域。该方法包括:(a)将Ge衬底依次在丙酮、无水乙醇、去离子水中超声清洗,清洗完成后浸泡在稀释的HF中,取出后去离子水清洗,用匀胶机甩干备用;(b)将Ge衬底与Se粉放入管式炉中进行反应;(c)采用高真空磁控溅射薄膜沉积系统在硒化后的Ge衬底上溅射一层Pt薄膜;(d)再将溅射Pt后的Ge衬底与Se粉一同放入管式炉中进行反应制备Ge上PtSe2薄膜。本发明首次提出先将Ge衬底与Se粉反应生成一层阻挡层,再溅射Pt硒化,成功在Ge衬底上原位制备出PtSe2薄膜。

主权项:1.一种新型Ge上PtSe2薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:a将Ge衬底依次在丙酮、无水乙醇、去离子水中超声清洗,清洗完成后浸泡在HF中,取出后用去离子水清洗,用匀胶机甩干备用;b将Ge衬底与Se粉放入管式炉中进行反应;c采用高真空磁控溅射薄膜沉积系统在硒化后的Ge衬底上溅射一层Pt薄膜;d将溅射Pt薄膜后的Ge衬底与Se粉一同放入三温区管式炉中进行反应制备Ge上PtSe2薄膜。

全文数据:

权利要求:

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