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申请/专利权人：哈尔滨工程大学
摘要：本发明涉及一种对遗留结构进行复形产生新的纳米结构的方法，属于纳米结构压印技术领域。解决冷压印本身复杂性受限和模板制备复杂的问题。包括以下步骤：对材料进行压印，得到压制好的材料；对压制好的材料进行阳极氧化；去掉压制好的材料上的氧化层，得到残余的微纳结构；对微纳结构进行覆膜，得到压印模板；使用压印模板对另一材料进行压印，得到另一压制好的材料；对另一压制好的材料进行阳极氧化，得到第二氧化层。本发明极大的降低了模板制作所需的难度和成本；可以丰富其纳米结构的单元晶格多样性并降低制作成本。
主权项：1.一种对遗留结构进行复形产生新的纳米结构的方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：对材料进行压印，得到压制好的材料；步骤一中，材料为铝片，用镍膜对铝片进行硬压印，采用4-5pa压强，持续时间为2min，可得到初步压制好的基底（11）；步骤二：对压制好的材料进行阳极氧化；步骤二中，采用160V电压，磷酸：乙二醇：水=1：200：400的氧化液，氧化时间为1h，可附有第一氧化层（12）；步骤三：去掉压制好的材料上的氧化层，得到残余的微纳结构；步骤三中，使用铬酸溶液去除第一氧化层（12），浸泡4-8h，可得到残余基底（11）；步骤四：对微纳结构进行覆膜，得到压印模板；步骤四中，在基底（11）表面电镀一层30nm的涂覆层（13），涂覆层（13）为镍膜，一平方厘米的电镀电流为0.0003A，时间为500s，可以得到作为压印模板的结构；步骤五：使用压印模板对另一材料进行压印，得到另一压制好的材料；步骤五中，使用压印模板进行压印，压强为6-7Pa，时间为5min；步骤六：对另一压制好的材料进行阳极氧化；步骤六中，对压制好的被压基底（21）进行阳极氧化，可得到第二氧化层（22）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 哈尔滨工程大学 一种对遗留结构进行复形产生新的纳米结构的方法
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