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申请/专利权人：四川上特科技有限公司

摘要：本发明公开了一种晶圆片清洗组件、清洗装置及清洗方法，清洗组件用于清洗晶圆片，包括清洗池、清洗槽、多个水喷头。清洗槽左右两端连接于清洗池内壁，清洗槽底部悬空，且底部开口设置；水喷头形状为圆盘状，连接有水管，水喷头两面均设有喷水孔，清洗槽内间隔设有喷头卡槽、晶圆片卡槽，多个水喷头依次排列于喷头卡槽内；若干晶圆片依次排列于晶圆片卡槽内。将浸泡式清洗改成喷洒式清洗，可以清洗每一个晶圆片，并且便于污水快速流走，可以极大的提高晶圆片的清洗效果和清洗效率。

主权项：1.一种晶圆片清洗装置，其特征在于，包括：晶圆片清洗组件，用于清洗晶圆片（4），包括清洗池（1）、清洗槽（2）、多个水喷头（3），清洗槽（2）左右两端连接于清洗池（1）内壁，清洗槽（2）底部悬空，且底部开口设置，水喷头（3）形状为圆盘状，连接有水管（31），水喷头（3）两面均设有喷水孔，多个水喷头（3）依次排列于清洗槽（2）内，若干晶圆片（4）依次排列于清洗槽（2）内，且间隔、平行设于两个水喷头（3）之间，清洗槽（2）由前后对称的两个卡板（21）组成，从上到下，两个卡板（21）的间距依次缩小，卡板（21）内壁间隔设有喷头卡槽（22）、晶圆片卡槽（23），分别与水喷头（3）、晶圆片（4）匹配；夹持组件（6），连接于转移机构（5），用于夹持若干晶圆片（4），将晶圆片（4）放入清洗槽（2）或从清洗槽（2）内取出；转移机构（5），位于清洗池（1）外端，用于将夹持组件（6）转移至清洗池（1）或从清洗池（1）内转移出去，转移机构（5）包括转动组件（51）、平移板（52）、移动框（53）和两个并排设置的蜗杆（54），转动组件（51）从上到下依次包括齿轮（513）、连杆（512）和涡轮（511），蜗杆（54）沿左右方向设置，两端通过轴承连接于支撑板（55），且其中一端连接有转动电机（56），蜗杆（54）上方设有支撑条（57），支撑条（57）两端连接于支撑板（55），平移板（52）可沿左右方向滑动配合于支撑条（57），移动框（53）可沿前后方向滑动配合于平移板（52），移动框（53）左侧或右侧内壁设有一齿条（531），涡轮（511）位于两个蜗杆（54）之间，且涡轮（511）、蜗杆（54）啮合，齿轮（513）位于移动框（53）内，且齿轮（513）与齿条（531）啮合，平移板（52）包括底板（521）和位于底板（521）顶部左右两侧的限位条（522），两个支撑条（57）内壁设有长条形滑槽（571），底板（521）滑动配合于长条形滑槽（571）内，连杆（512）贯穿连接底板（521），且与底板（521）转动配合，两个限位条（522）内壁设有限位滑槽（523），移动框（53）滑动配合于限位滑槽（523）内，移动框（53）顶部设有立柱（532），立柱（532）朝清洗池（1）方向设有水平支杆（533），水平支杆（533）依次设有若干夹持组件（6）；夹持组件（6）包括升降杆（61）和连接于升降杆（61）底部的柔性夹爪（62），柔性夹爪（62）通过充气或放气的方式来夹持晶圆片（4）；清洗装置还包括输送机构（71）和位于输送机构（71）上的收纳筐（72），输送机构（71）与清洗池（1）外侧，收纳筐（72）用于承接夹持组件（6）上的晶圆片（4）；收纳筐（72）左右方向的截面与清洗槽（2）相同，收纳筐（72）底部封闭设置，内壁设有若干晶圆片卡槽（23）。

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