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申请/专利权人：弘塑科技股份有限公司
摘要：本申请公开了一种防喷溅液体供应装置及单晶片处理设备。防喷溅液体供应装置，包括旋转立柱、悬臂、喷嘴、第一遮罩、第二遮罩和排放管路。悬臂的一端连接至所述旋转立柱。喷嘴固定在悬臂的另一端，并且当旋转立柱旋转时藉由悬臂带动喷嘴在晶片上方进行往复移动并喷洒工艺液体。第一遮罩与第二遮罩同轴地固定在所述喷嘴上，第二遮罩包覆第一遮罩。排放管路连结于第二遮罩，配置为于第一遮罩与第二遮罩之间形成负压空间，并通过负压空间吸取来自晶片的工艺液体的喷溅及或工艺液体与晶片的反应产物的喷溅。
主权项：1.一种防喷溅液体供应装置，其特征在于，所述防喷溅液体供应装置包括：旋转立柱；悬臂，其中所述悬臂的一端连接至所述旋转立柱；喷嘴，其中所述喷嘴固定在所述悬臂的所述另一端，并且当所述旋转立柱旋转时藉由所述悬臂带动所述喷嘴在晶片上方进行往复移动并喷洒工艺液体；第一遮罩与第二遮罩，同轴地固定在所述喷嘴上，其中所述第二遮罩包覆所述第一遮罩，所述第一遮罩与所述第二遮罩分别具有面向所述晶片的第一开口与第二开口，而所述第二开口较所述第一开口更靠近所述晶片；以及排放管路，连结于所述第二遮罩，配置为于所述第一遮罩与第二遮罩之间形成负压空间，并通过所述负压空间吸取来自所述晶片的所述工艺液体的喷溅及或所述工艺液体与所述晶片的反应产物的喷溅。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 弘塑科技股份有限公司 防喷溅液体供应装置及单晶片处理设备
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