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申请/专利权人：合肥开悦半导体科技有限公司
摘要：本发明公开了一种涂胶显影装置和方法，涉及涂胶显影机技术领域，包括工艺机构、热处理装置、缓存机构、工艺机械臂和热处理机械臂；所述工艺机构用于对晶圆实施涂胶显影工艺，工艺机构为现有技术中的涂胶工艺设备和显影工艺设备，所述热处理装置用于对晶圆实施热处理工艺，热处理装置为现有技术中的热板结构，所述缓存机构用于存放晶圆，所述缓存机构用于冷却晶圆；所述工艺机械臂在工艺机构和缓存机构之间传输晶圆，所述热处理机械臂在热处理装置和缓存机构之间传输晶圆，通过工艺机械臂和热处理机械臂的设置，工艺转运和热处理转运互不影响，避免出现晶圆温度不均，产生工艺质量不达标的问题。
主权项：1.一种涂胶显影装置，其特征在于，包括工艺机构3、热处理装置5、缓存机构6、工艺机械臂7和热处理机械臂8；所述工艺机构3用于对晶圆实施涂胶显影工艺，所述热处理装置5用于对晶圆实施热处理工艺，所述缓存机构6用于存放晶圆和冷却晶圆；所述工艺机械臂7在工艺机构3和缓存机构6之间传输晶圆，所述热处理机械臂8在热处理装置5和缓存机构6之间传输晶圆。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥开悦半导体科技有限公司 一种涂胶显影装置和方法
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