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申请/专利权人:广州粤升半导体设备有限公司
摘要:本发明实施例提供了一种输气装置及外延设备,其中,输气装置包括腔室主体、分气座、整流板和进气管道。腔室主体具有进气口和出气口,出气口用以与反应室连接,腔室主体内部形成有连接进气口和出气口的输气腔;分气座设置在腔室主体的进气口处,并覆盖进气口,分气座与腔室主体固定连接;分气座上设有导气孔;整流板固定设置在腔室主体和分气座之间,并覆盖进气口;整流板和分气座之间形成有匀气腔;整流板上设有多个连通匀气腔和输气腔的整流孔;整流孔为渐扩形孔;渐扩形孔朝向腔室主体的开口,大于其远离腔室主体的开口;进气管道的一端与导气孔固定连接,另一端与气源连接。本申请实施例的输气装置,可在反应室中获得稳定的流场。
主权项:1.一种输气装置,其特征在于,用以向反应室输送气体,所述输气装置包括:腔室主体100,所述腔室主体100具有进气口110和出气口120,所述出气口120用以与所述反应室连接,所述腔室主体100内部形成有连接所述进气口110和所述出气口120的输气腔130;分气座200,所述分气座200设置在所述腔室主体100的进气口110处,并覆盖所述进气口110,所述分气座200与所述腔室主体100固定连接;所述分气座200上设有导气孔210;整流板300,所述整流板300固定设置在所述腔室主体100和所述分气座200之间,并覆盖所述进气口110;所述整流板300和所述分气座200之间形成有匀气腔250;所述整流板300上设有多个连通所述匀气腔250和所述输气腔130的整流孔310;所述整流孔310为渐扩形孔;所述渐扩形孔朝向所述腔室主体100的开口,大于其远离所述腔室主体100的开口;进气管道400,所述进气管道400的一端与所述导气孔210固定连接,另一端与气源连接。
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权利要求:
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