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申请/专利权人:美商艾德亚半导体接合科技有限公司

摘要:公开了一种半导体元件,该半导体元件包括半导体部分、在半导体部分上的非导电层、由第一材料形成并且至少部分地嵌入非导电层中的上导电层、在上导电层下方并且电连接至上导电层的下导电层、以及被设置在上导电层与下导电层之间的阻挡层。该阻挡层由不同于第一材料的第二材料形成,并且该第二材料具有在20℃处小于30×10‑8mΩ的电阻率以及大于1200℃的熔点。

主权项:1.一种半导体元件,包括:半导体部分;非导电层,在所述半导体部分上;上导电层,至少部分地嵌入所述非导电层的腔中,所述上导电层由第一材料形成;下导电层,在所述上导电层下方并且电连接至所述上导电层;以及阻挡层,被设置在所述上导电层与所述下导电层之间,所述阻挡层在横向上宽于所述腔,所述阻挡层由不同于所述第一材料的第二材料形成,所述第二材料具有在20℃处小于50×10-8mΩ的电阻率以及大于1200℃的熔点。

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权利要求:

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