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申请/专利权人：厦门铭意真空科技有限公司
摘要：本实用新型提供了一种连续不间断工作的弧靶双引弧装置。包括法兰盘，所述法兰盘一侧设有磁铁组件，在所述法兰盘远离所述磁铁组件的一侧设有靶材安装组件，所述靶材安装组件与所述法兰盘之间装配形成有一水冷通道，在所述靶材安装组件侧壁上设有一相应的屏蔽组件，所述靶材安装组件外侧间隔设置有一与所述法兰盘连接的法兰绝缘垫；所述法兰盘上穿设有第一引弧组件和第二引弧组件，所述第一引弧组件由引弧合件与第一引弧针组成，所述第二引弧组件由所述引弧合件与第二引弧针组成，装配后所述第一引弧针放电端与靶材表面的距离大于所述第二引弧针放电端与靶材表面的距离。本实用新型能够提高靶材利用率，节约材料成本。
主权项：1.一种连续不间断工作的弧靶双引弧装置，其特征在于，包括：法兰盘1，所述法兰盘1一侧设有磁铁组件3，在所述法兰盘1远离所述磁铁组件3的一侧设有靶材安装组件7，所述靶材安装组件7与所述法兰盘1之间装配形成有一水冷通道8，在所述靶材安装组件7侧壁上设有一相应的屏蔽组件6，所述靶材安装组件7外侧间隔设置有一与所述法兰盘1连接的法兰绝缘垫5；所述法兰盘1上穿设有第一引弧组件2和第二引弧组件4，所述第一引弧组件2由引弧合件10与第一引弧针21组成，所述第二引弧组件4由所述引弧合件10与第二引弧针41组成，装配后所述第一引弧针21放电端与靶材9表面的距离大于所述第二引弧针41放电端与靶材9表面的距离。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 厦门铭意真空科技有限公司 一种连续不间断工作的弧靶双引弧装置
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